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ギャラリー(装置写真)

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画像の説明 　 BL14U 走査型軟X線顕微鏡
BL14Uにおける円偏光軟X線を用いた磁気イメージングを得意とする装置であり、試料に最大8Tの強磁場を印加することができます。一般的な軟X線顕微鏡としても利用可能ですが、超高真空中に導入しても真空度に顕著な悪影響を及ぼさない試料に限ります。現在、得られている空間分解能の最大値は、垂直方向が約50nm、水平方向が約100nmとなります。また、試料表面に数µmの凹凸があっても概ね焦点深度内となるため、破断面の観察などにも有効です。
画像の説明 BL07U nano-ESCA
放射光軟X線をフレネルゾーンプレートで100nmより小さく集光し、超高真空内に導入した2軸ピエゾステージで試料を2次元面内方向に高精度でスキャンすることで、物質の電子・化学状態分布を100 nm程度の空間分解能で解析可能とする装置です。また、VG Scienta社製のR3000静電半球型アナライザと超広角度取込レンズの組み合わせにより、1度の角度分解能で60度の範囲の光電子放出角度依存性を一括取り込みできます。真空下で4端子電極を備え、電圧印加のオペランド測定や温度可変測定にも対応しています。
画像の説明 BL07U RIXS
固体・液体・気体の内部、界面を問わず、物質中に含まれる軽元素、遷移金属の価電子状態を元素選択的に得られる装置であり、試料に電場・永久磁石磁場（< 0.25 T）を印加し、温度（25 - 480 K）・湿度（0 - 100 %）環境などを制御して、オペランド（機能下）測定を行うこともできます。さらに垂直・水平直線偏光や左右円偏光を利用することで分子の配向、軌道の特定も可能になります。溶液試料も0 - 80 ℃で温度可変です。試料位置のビームサイズはおよそ5 μm x 50 μmです。
画像の説明 BL08U オペランド軟X線XAFS
BL08Uでは偏光可変型アンジュレータを光源としており、0.18 eV~2 keVの光エネルギーの軟X線を垂直・水平直線偏光や左右円偏光で使用することができます。XAFS装置として標準的なものと高度なものの２種類が用意されています。いずれも電子収量法や蛍光収量法でのXAFS測定が可能で、試料の元素・化学状態分析や分子配向性の決定などが実施できます。標準的な装置のサンプルホルダーには試料サイズ1cm角のものを取り付けることができます。写真の高度な装置については1μm以下の集光やオペランド測定が可能ですが、具体的な実験については事前に相談が必要です。
画像の説明 BL08U AP-XPS
超高真空からガス雰囲気下での軟X線光電子分光測定が可能な装置です。触媒などの表面における元素・化学状態分析に用いられます。質量分析器をもとに反応物と生成物をモニターし、反応中間体をリアルタイムで分析します。試料準備チャンバーが整備されており、表面清浄化や電子回折による試料評価も可能です。サンプルホルダーには試料サイズ1cm角のものを取り付けることができます。測定温度は常温〜７００度で、雰囲気圧力は準大気圧まで可能です。ガス雰囲気下での光電子分光装置での実験は試料ガスなどの条件に大きく依存しますので事前相談が不可欠です。
画像の説明 　BL08W 粉末X線回折
粉末X線回折装置です。17.5 keV (0.708Å)または28.5 keV (0.405Å)を用いた回折実験が実施できます。粉末回折用キャピラリースピナーと二次元検出器を用いてキャピラリー封入試料の粉末回折測定が可能です。検出器には、大面積フラットパネル検出器（浜松フォトニクス、ピクセルサイズ140 μm × 140 μm、検出面積430 mm x 430 mm）を用いています。利用者に十分なスキルがあれば環境セル（透過型セルなど）を持ち込んだin-situ測定も想定されます。
画像の説明 BL08W SAXS
Anton Paar社製SAXSpoint5.0 小角散乱装置（特注仕様）です。本装置により8.0 keV (1.55 Å)または13.1 keV (0.947Å)を用いた散乱回折実験が実施できます。検出器には、EIGER2 S 1M-BL-08（DECTRIS、ピクセルサイズ75 μm×75 μm、検出面積77.1 mm×79.7 mm）を使用しています。カメラ長は、60 mmから1600 mmを選択でき、数Åから100nm程度までの構造評価が可能です。カメラ長は、１分程度で変更することができます。-10℃から120℃までの温度条件や、斜入射条件も可能です。キャピラリーを用いた溶液測定や、溶液用のセルも準備しています。
画像の説明 BL08W XAFS
青色架台の上に設置されている装置が真空XAFS装置（テンダーエネルギー領域）、定盤上に設置されているのが大気下XAFS装置（ハードエネルギー領域）です。真空XAFS装置と大気下XAFS装置はビームライン光軸上に直列で設置されています。BL08W-XAFSは、マルチポールウィグラーを光源としています。二結晶分光器（分光結晶はSi(111)）により、テンダー領域の2.1 keVからハード領域の13.0 keVまでのエネルギーを利用し、X線吸収分光法によって材料中の原子の化学状態や局所構造を解析するビームラインです。テンダー領域は、全電子収量法、蛍光法、ハード領域では、透過法、転換電子収量法、蛍光法が可能です。ハード領域では、持ち込み装置を設置でき、利用者に十分なスキルがあれば in-situ測定も想定されます。
画像の説明 BL09U HAXPES
BL09Uの硬X線光電子分光（HAXPES）測定システムの外観です。写真中央はビーム集光用のウォルターミラー真空槽があり、その右側にHAXPES装置本体が設置されています。BL09Uでは真空封止アンジュレータにより発生する高輝度硬X線を用いたHAXPES実験が可能です。HAXPESのバルク敏感性を活かし、材料内部や埋もれた界面の電子状態・化学結合状態を可視化します。不均一触媒、エネルギー材料、エレクトロニクス、スピントロニクス、固体物理への応用が可能です。HAXPES実験時の光エネルギーは6keVに固定され、全エネルギー分解能は300meV以下です。試料位置でのビームサイズは約10μmです。試料は帯電を避けるため導電性を必要とします。試料環境は真空（<1x10-6 Pa）、室温です。真空中劈開による清浄表面出しが可能です。
画像の説明 BL09W 白色X線ＣＴ・白色X線イメージング装置
多極ウィグラーにより発生する白色X線を利用するX線CT装置です。非破壊で試料の内部構造や欠陥などを観察することができます。X線の透過性を利用し、試料の二次元透過像を取得しながら試料を回転させ、得られた連続撮影像をプログラムによる再構成をすることにより、断層像を得ることができます。視野サイズはおよそ4 mm(垂直)×20 ｍｍ(水平)であり、常設されているCMOSカメラの画素サイズは4.6μmです。X線を透過する必要がありますので、試料に含まれる元素や厚みによって測定可否が判断できますので事前にご相談ください。
画像の説明 BL09W 白色X線 4D-CT
上流の平板ミラーにより主に30 keV以上はカットされた硬Ｘ線白色放射光を利用して試料高速回転4DＸ線CT（アドバンスド測定）が実現可能な装置です。視野は約5 mm角、画素サイズは5 μmで、試料回転方向は、鉛直方向、水平方向いずれにも対応できます。Ｘ線画像検出器のフレームレートは、1024画素×1024画素で12,800 フレーム/秒（Photron社製FASTCAM Nova S12）、65,940フレーム/秒（Vision Research社製Phanton TMX6410）などが選択可能で、4DＸ線CTの時間分解能は、180°あたりの投影数をフレームレートで割った値で決まります。※Ｘ線位相コントラストCT、試料高速回転装置については応相談。
画像の説明 BL10U タイコグラフィー
タイコグラフィ測定が可能な装置です。本装置を用いて取得した回折強度パターンに位相回復計算を実行することで、10μm程度の視野、数十nmの空間分解能で試料をイメージングすることが可能です。現在、集光素子としてフレネルゾーンプレート、画像検出器としてEIGER 1M-RW(DECRTIS社製)を用いており、試料は1Pa程度まで真空排気された真空槽内に配置されます。今年度中に、試料を大気開放下に配置可能な装置、集光素子としてAdvanced Kirkpatrick-Baez集光鏡、画像検出器としてCITIUS 840kが導入される予定です。
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